Um modelo, chamado de “fotomáscara”, para uma camada de material sensível à luz, depositado sobre uma placa de silício. Esse processo permite a criação de estruturas em escala nanometrica, sendo uma técnica crucial para a miniaturização e o aumento da eficiência de dispositivos eletrônicos. Em uma fábrica, o feixe de laser utilizado na fotolitografia precisa ser direcionado utilizando espelhos planos que podem ser rotacionados em torno de um eixo fixo. Durante um ajuste do sistema, um técnico gira um dos espelhos em 10° no sentido horário. Sabendo que o ângulo de incidência do feixe de laser no espelho original era de 30°, responda aos itens a seguir:
Um modelo, chamado de “fotomáscara”, para uma camada de material sensível à luz, depositado sobre uma placa de silício. Esse processo permite a criação de estruturas em escala nanometrica, sendo uma técnica crucial para a miniaturização e o aumento da eficiência de dispositivos eletrônicos.
Em uma fábrica, o feixe de laser utilizado na fotolitografia precisa ser direcionado utilizando espelhos planos que podem ser rotacionados em torno de um eixo fixo. Durante um ajuste do sistema, um técnico gira um dos espelhos em 10° no sentido horário. Sabendo que o ângulo de incidência do feixe de laser no espelho original era de 30°, responda aos itens a seguir:
- Qual será o novo ângulo de reflexão do feixe de laser após a rotação do espelho?
- De quanto será a variação total no desvio do feixe refletido em relação à direção inicial do feixe antes da rotação?